사업소개

본문 바로가기
EN

사업소개

나노/마이크로 소자를 이용한 초정밀 열특성 측정 센서 및 시스템 개발

AI 반도체 수요 급증으로 고사양 반도체의 집적도 및 연산량 증가로 발열 문제가 심화되었습니다.
기존 열측정 기술은 저차원 재료 분석의 한계로 고사양 반도체 정밀 열관리 솔루션 불가하여 초정밀 열특성 측정을 통해 AI 반도체의 과열 문제 해결 및 성능 안정화 시급합니다.
히트메트릭엑스는 ±0.001°C 정밀도, 고성능 반도체를 위한 저차원 재료의 열특성 측정이 가능한 나노/마이크로 소자를 이용한 초정밀 열특성을 측정하는 센서 및 시스템 개발을 하였습니다.

AI 반도체 및 고사양 반도체 수요 급증
반도체 열관리의 중요성 부각
기존 기술의 한계

기존 기술의 문제점 및 한계

기술 방식 측정요소 측정가능한 샘플 사이즈
Laser Flash Method 열확산도를 이용한 비간접적 열전도도 측정
샘플표면 처리 요함
cm-scale
Hot Disk Method 열확산도를 이용한 비간접적 열전도도 측정 cm-scale
AC lock-in technique 및 커스터마이징 마이크로 디바이스 적용(HeatMetricX) 직접적 열전도도 측정 Down to nm-scale

솔루션 특징

  • 본 기술은 나노 및 마이크로 스케일에서의 정확한 온도 측정 시스템을 구현해 기존 측정기술이 가지는 한계를 극복하며 차세대 패키징 설계와 신뢰성 검증을 지원
  • MEMS 기반 측정 플랫폼을 통해 정교한 온도 및 열유속 센서를 탑재함으로써 박막필름 및 나노와이어와 같은 저차원 재료의 열 물성 측정을 가능하게 함
  • 이와 더불어 AC modulated lock-in 기법을 적용해 복잡한 구조체 및 저차원 샘플의 정밀한 열측정 구현 현재 싱가포르국립대 연구실에 데모장비 구축

측정 장비 프로토타입 사진

지름 40nm 수준의 폴리머 나노와이어와 같은 저차원 샘플의 열전도도 분석 예시

기술 차별성

HeatMetricX Lock-in 는 기존 기술의 한계를 극복한 초정밀 마이크로 열센서와 회로 기술을 바탕으로 시장 진입 및 확장에 유리한 구조를 보유

항목 Thermocouple IR Camera Laser Flash HeatMetricX
측정 방식 접촉식, 단일지점 비접촉 영, 상 기반 열전달 해석 기반 MEMS 기반
정밀도 0.001°C 0.1°C 0.01°C 0.001°C
측정 대상 단일 포인트 표면 온도 균질 재료 미세구조 포함 내부 열 분포
적용 한계 다점 미· 세구조 측정 불가 내부 열 분포 측정 불가 불균질 다/ 층구조 측정 불가 Chiplet, HBM 패키지 최적화 가능
비고 - - - 데이터 분석 및 공정 최적화 서비스 포함
사업자 등록번호. 783-86-03616 대표자. 신선미 이메일. hipark@heatmetric.com
주소. 대전광역시 유성구 계룡로105번길 15, 2층 203-지104호